众所周知，在芯片制造中，光刻机是必不可少的设备。
而7nm及以下的芯片芯片制造，EUV光刻机是必不可少的设备，而EUV光刻机仅ASML一家能够生产，所以一直以来ASML都是保持着自己的节奏，不多生产。
这样EUV光刻机就是卖方市场，ASML说了算，三星、台积电、intel等厂商，要从ASML这里抢，才能够买到，价格还高高在上。
2021年，ASML的EUV光刻机一共只卖出了42台，实际上市场上的需求达到了60多台，但ASML就是不生产这么多出来。
为此，其它厂商也在不断的努力，想换道超车，通过其它技术，来替代EUV光刻机。目前已经有三种方案，在有进，分别是：1、纳米压印光刻（NIL）；2、直接自组装（DSA）光刻；3、电子束光刻（EBL）。
其中美国企业已经推出了EBL电子束光刻机，能够用于生产0.768nm的芯片；而佳能则押宝NIL光刻机，并与铠侠合作，计划用于3D NAND闪存生产中；而DSA光刻机，各大巨头也是在关注。
像intel、台积电、三星等巨头，则是三大光刻技术，都在押注，以免万一某一种技术突然崛起，把自己搞得措手不及。
这让ASML压力山大，那么怎么办呢？当然是想办法讨好客户，让客户的需求得到满足，这要客户就不会跑掉了。
于是近日ASML公布了自己的一个计划，那就是推动产能增长，多产生光刻机出来，让客户都能买到，这样就不会想着其它技术了。
ASML表示，他们计划将产能增加到 90 个 EUV 和 600 个 DUV 系统（2025-2026 年），同时还将 High-NA EUV 产能增加到 20 个系统（2027-2028 年）。
与2021年42套EUV系统销量相比，相当于EUV光刻机产能直接增加210%+了，这应该是ASML拿出来的最大诚意了。
当然，ASML肯定不会承认是怕别的技术或厂商抢了市场，只说自己是看到市场需求过大，供不应求，所以才扩产的。
但事实是，当一个市场，只有一家企业能提供产品时，这个市场就是被垄断着的，所以ASML就算再增加产能，也一定会有其它厂商有其它想法。
所以EUV光刻机的替代方案，一定会出来的，只是时间问题，就算ASML产能再高，也一样阻止不了，你觉得呢？
