近日美国芯片企业美光成功研发出绕开EUV光刻机的1β制造工艺，显示出全球芯片行业突然兴起了一股绕开光刻机的风潮，这让光刻机巨头ASML一脸懵逼，为何突然间都在研发摆脱EUV光刻机的工艺了？
此前日本企业已经研发出无需光刻机的NIL工艺，该工艺已被日本存储芯片企业铠侠采用，近期NIL工艺已突破10nm，预计最终可以演进到5nm，证明了无需光刻机工艺是有可能实现的。
由于众所周知的原因，中国大陆难以获得ASML的EUV光刻机，中国大陆不得不研发无需EUV光刻机的工艺，日本的NIL工艺为中国提供了启发，而且近期中国招标光刻机的时候也将大部分订单给予日本光刻机，或许中国可望因此加快研发无需EUV光刻机的工艺进度。
美国芯片企业当然没有获取的EUV光刻机的困难，但是美光科技竟然也研发了无需EUV光刻机的工艺，业界人士认为这可能是因为EUV光刻机的成本太高了，一台EUV光刻机的价格是DUV光刻机的数倍，而且耗电量也大增，导致成本大幅上涨，因此美光科技研发绕开EUV光刻机的1β制造工艺。
美国芯片设备行业对ASML的威胁还不止于此，早前美国芯片设备企业Zyvex Labs开发了新的工艺设备，可以达到0.768nm，打破了ASML的EUV光刻机的1nm极限，这对于ASML更是致命威胁。
ASML的主要业务就是光刻机，而EUV光刻机更是ASML的主要利润来源，至今只有ASML能生产EUV光刻机，依靠EUV光刻机的技术优势，ASML已在研发更先进的第二代EUV光刻机，预计在2024年推出。
当前7nm以及更先进的工艺都需要EUV光刻机，此前由于EUV光刻机的产能有限，即使EUV光刻机价格昂贵，Intel、三星和台积电都争抢EUV光刻机，谁能抢到就能获得更多的市场，然而今年以来全球芯片行业形势突变。
上半年全球芯片行业出现供给过剩，到了下半年芯片供给过剩日益严重，到近期台积电已关闭部分EUV光刻机，同时台积电的3nm工艺由于没有客户没有量产；三星量产了3nm工艺，却也被质疑没有客户，这都导致芯片制造企业对于EUV光刻机的态度冷淡，ASML寄望更先进的第二代EUV光刻机可以带来新的收入。
然而如今日本和美国企业都绕开了EUV光刻机，中国市场需要EUV光刻机，ASML却又因众所周知的原因无法对中国出售；美国企业研发更先进的工艺，打破了ASML第二代EUV光刻机所瞄准的2nm以及1.8nm极限，这更是断了ASML的生路。
或许到了这个时候，ASML才幡然醒悟，顺从美国的结果却是被美国挖了它的命根，ASML的前途一片黯淡，此时它或许真的后悔当初遵从美国的要求，而美国却丝毫不在乎它的死活，事实一再证明美国一切做法都是为了美国企业的利益，对于ASML这些非美企业只有一再的操弄。
